Dépôt d’ALD localisée : Nanofabrication de motifs d’épaisseur nanométrique sans utilisation de masque

Un réacteur ALD permettant de travailler à pression atmosphérique et de localiser directement le dépôt de façon précise a été mis au point par les équipes COM et MBD du LMI

. L’approche développée, nommée LOCALD, permet la fabrication de nanostructures de dimensionnalité contrôlée avec un contrôle de l’épaisseur au niveau atomique, sans pré- ou post-traitement. Des motifs complexes d’oxydes métalliques avec une résolution latérale inférieure au mm sont actuellement possibles. Ces résultats ont été publiés dans ACS Applied Nano Materials. Une attention particulière est portée au dépôt localisé d’oxydes métalliques (TiO2, ZrO2) ainsi qu’à la fonctionnalisation de surface. En particulier, cette approche permet de contrôler/modifier localement les propriétés de mouillage. Le travail sur la fonctionnalisation localisée de surface est en cours de publication

Schéma de principe et motif nanométrique de TiO2 avec une résolution latérale submillimétrique réalisée par ALD localisé

Contact :             Catherine Marichy

                               Catherine.marichy@univ-lyon1.fr

Publié le 2 février 2022